%0 Journal Article
%T Effects of Deposition Temperature on Microstructure and Tribological Properties of Pulsed Laser Deposited WSx Films<br>基底温度对脉冲激光沉积WSx薄膜组织结构和摩擦学性能的影响
%A ZHANG Ji
%A ZHENG Xiao-hu
%A YANG Fang-er
%A KOU Yun-feng
%A SONG Ren-guo
%A <br>张继
%A 郑晓华
%A 杨芳儿
%A 寇云峰
%A 宋仁国
%J 摩擦学学报
%D 2012
%I 
%X 采用脉冲激光沉积法（PLD）在不同温度单晶硅基底上制备了WSx固体润滑薄膜.利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线能谱仪（EDS）、X射线衍射仪（XRD）对薄膜的成分、形貌和微观结构进行了分析,采用球-盘式磨损试验机测试了薄膜在大气环境下（相对湿度50%～60%）的摩擦学特性.结果表明：室温下所获得的薄膜为微晶结构;在RT～300℃范围内,随着温度的升高,薄膜表面趋于光滑、致密,且形成晶态WSx的趋势逐渐增大,薄膜与基底间的结合力增大,但薄膜中S和W的含量之比（S/W比）从1.84逐步下降到1.49.薄膜的摩擦系数在RT～200℃范围内与其S/W比呈反比关系,在300℃条件下,薄膜中形成了大量的WS2晶体,摩擦系数最低且耐磨性能也最好.
%K thin film
%K WS2
%K pulsed laser deposition
%K substrate temperature
%K solid lubrication<br>薄膜
%K WS2
%K 脉冲激光沉积
%K 基底温度
%K 固体润滑
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=5D344E2AD54D14F8&jid=2F467A5C6371C830162AAA01D7DAD07A&aid=DC0994A58AFB6AE9CF1DD57545AE0FB0&yid=99E9153A83D4CB11&vid=9971A5E270697F23&iid=B31275AF3241DB2D&sid=EF9E84B2DA79FF23&eid=54E527C5B72E59D8&journal_id=1004-0595&journal_name=摩擦学学报&referenced_num=0&reference_num=24