%0 Journal Article
%T Tribological Properties of Alumina Films Fabricated by Atomic Layer Deposition<br>原子层沉积氧化铝薄膜摩擦学性能研究
%A WANG Ying
%A YANG Jing
%A YUAN Ning-yi
%A DING Jian-ning
%A XIA Li
%A TAN Cheng-bang
%A <br>王莹
%A 杨静
%A 袁宁一
%A 丁建宁
%A 夏丽
%A 谭成邦
%J 摩擦学学报
%D 2013
%I 
%X 不同温度条件下,采用原子层沉积(ALD)技术在单晶硅基底表面制备了Al2O3薄膜.利用原子力显微镜观察了Al2O3薄膜的表面形貌和粗糙度,利用纳米压痕仪测定了薄膜的硬度,并通过UMT-2型往复摩擦磨损试验机(球-盘接触方式)考察了制备温度、载荷和对偶球对Al2O3薄膜的摩擦学性能的影响.结果表明:不同温度条件下制备得到的Al2O3薄膜的粗糙度不同;制备温度为100和200 ℃的Al2O3薄膜的摩擦性能较优;在所用载荷范围内,摩擦系数存在最低值;与不同对偶球对摩时,由于对偶球硬度不同,Al2O3薄膜呈现不同的摩擦磨损现象.
%K alumina film
%K atomic layer deposition
%K preparation temperature
%K counterpart ball
%K friction and wear<br>Al2O3薄膜
%K 原子层沉积
%K 制备温度
%K 对偶球
%K 摩擦磨损
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=5D344E2AD54D14F8&jid=2F467A5C6371C830162AAA01D7DAD07A&aid=DC0739EE97CB19E16EF949CFD005A21B&yid=FF7AA908D58E97FA&vid=27746BCEEE58E9DC&iid=0B39A22176CE99FB&sid=6425DAE0271BB751&eid=DD74772618543076&journal_id=1004-0595&journal_name=摩擦学学报&referenced_num=0&reference_num=23