%0 Journal Article
%T 射频非平衡磁控溅射WS2薄膜的结构及其摩擦学性能研究
%A 孔良桂
%A 徐书生
%A 郝俊英
%J 摩擦学学报
%D 2015
%R 10.16078/j.tribology.2015.04.005
%X 采用射频非平衡磁控溅射技术制备了具有不同(002)择优取向程度的WS2薄膜,研究了Ar流量对薄膜成分、微观结构、力学性能和摩擦学性能的影响.研究表明:随Ar流量的增大,WS2薄膜的S/W原子比和(002)衍射峰强度均表现出先降低后升高的变化趋势,而硬度和弹性模量表现出先升高后降低的变化趋势.在大气环境下,WS2薄膜的(002)择优取向程度、S/W原子比以及硬度对薄膜的摩擦学性能均具有显著影响,当S/W原子比较低、(002)择优取向度弱、硬度较高时,薄膜脆性较大,易于发生润滑失效;当S/W原子比、(002)择优取向度和硬度均较高时,薄膜结构致密,且摩擦过程中在对偶表面易于形成有效的转移膜,薄膜表现出较好的减摩、抗黏着特性和优异的抗磨性能.
%K 非平衡磁控溅射
%K WS2薄膜
%K 晶体取向
%K 摩擦学性能
%U http://www.tribology.com.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20150405&flag=1