Grundlegende Untersuchungen zur Erzeugung von nano-kristallinen Diamant-Schichten mittels Laserpulsabscheidung

Es werden grundlegende Untersuchungen zur Erzeugung von nanokristallinenDiamantschichten mittels PLD (Pulsed Laser Deposition)vorgestellt. Die Schichtabscheidung erfolgte auf Silizium(111)-Substraten, durch Laserpulsablation eines Graphittargets miteinem KrF-Excimerlaser. Die Substrate wurden mit einer Diamantsuspensionund/ oder mittels Ionenbeschuss vorbehandelt. FolgendeProzessparameter wurden variiert: Laserfluenz zwischen 10 J cm-2und 15 J cm-2, Substrattemperatur zwischen 360 C und 660 C undWasserstoffdruck zwischen 3mbar und 7 mbar. Der Einfluss der Abscheideparameter auf das Wachstum der nanokristallinen Diamant(n-D)-Schichten, wurde mittels Raman-Spektroskopie (Anregungswellenl nge 532 nm) und Rasterelektronenmikroskopie ermittelt. Die jeweiligen Schichtdicken wurden mittels Oberfl chenprofilometrie bestimmt. Bei geeigneterWahl der Prozessparameter konnten nanokristalline Diamantanteile in den Schichten nachgewiesen werden.