ni在zro2(111)薄膜表面的生长、电子结构及热稳定性

利用x射线光电子能谱、紫外光电子能谱和低能电子衍射研究了ni纳米颗粒在zro2(111)薄膜表面的生长模式、电子结构及热稳定性.zro2(111)薄膜外延生长于pt(111)单晶表面,厚度约为3nm.结果表明,当ni气相沉积到zro2(111)薄膜表面上时,遵循stranski-krastanov生长模式,即先二维生长至0.5ml(monolayer),然后呈三维岛状生长.随着覆盖度的减小,ni2p3/2峰逐渐向高结合能位移.利用俄歇参数法分析发现,引起该峰向高结合能位移的主要原因来源于终态效应的贡献,但在低的ni覆盖度时,也有部分初态效应的贡献,说明ni在zro2表面初始生长时,两者存在较强的界面相互作用,ni向zro2衬底传递电荷,形成带部分正电荷的niδ+.两种不同覆盖度(0.05和0.5ml)的ni/zro2(111)模型催化剂热稳定性研究表明,当温度升高时,ni逐渐被氧化成ni2+,并伴随着向zro2衬底的扩散.本文从原子水平上认识了ni与zro2表面的相互作用和界面结构,为理解实际zro2担载的ni催化剂结构提供了重要的依据.