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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
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全息光刻制备LC-DFB及光栅刻蚀优化

Keywords: 镓锑基 侧向耦合分布反馈 LC-DFB 全息光刻 二阶布拉格光栅

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Abstract:

成功制备出室温激射波长为2 μm的GaSb基侧向耦合分布反馈量子阱激光器.采用全息曝光及电感耦合等离子体刻蚀技术制备二阶布拉格光栅.优化了光栅制备的刻蚀条件,并获得室温2 μm单纵模激射.激光器输出光功率超过5 mW,最大边模抑制比达到24 dB

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