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ISSN: 2333-9721
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-  2019 

SiO2/Si上石墨烯薄膜的化学气相沉积法制备及其性能表征

DOI: 10.16818/j.issn1001-5868.2019.04.013

Keywords: 石墨烯 化学气相沉积 SiO2/Si 铜

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Abstract:

以铜为催化剂,采用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和甲烷为碳源的化学气相沉积两步法,在SiO2/Si衬底上制备了石墨烯薄膜。利用拉曼光谱分析了薄膜的层数和质量,利用光学显微镜(OM)和扫描电子显微镜(SEM)分析了薄膜的尺寸与表面形貌。实验探究了生长时间、氢气流量和气体总压强等工艺参数对石墨烯薄膜层数和质量的影响,最终在优化条件下制得10μm级质量较高的多层石墨烯薄膜

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